南大光電：公司 ArF 光刻膠產品拿到小批量訂單，可用於 55nm 工藝
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瞭解到，ArF 光刻膠材料是半導體制造的關鍵材料，可以用於 90nm-14nm甚至 7nm 技術節點的積體電路製造工藝。此前我國國產光刻膠主要集中在中低端產品，但是用於精密工藝的 ArF 光刻膠一直以來被國外廠商壟斷。
根據南大光電此前公告，ArF 光刻膠的市場前景好於預期。隨著國內 IC 行業的快速發展，自主創新和國產化步伐的加快，以及先進製程工藝的應用，將大大拉動光刻膠的用量。
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