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SK 海力士:未來十年將研發 10nm 以下 DRAM 和 600 層 NAND

3 月 25 訊息,據國外媒體報道,SK 海力士是全球重要的儲存晶片製造商,他們在去年 10 月份同英特爾達成了協議,將以 90 億美元收購英特爾大部分的 NAND 快閃記憶體及儲存業務,收購之後就將超過日本的 Kioxia,成為僅次於三星的全球第二大 NAND 快閃記憶體製造商,並會縮小與三星的差距。

除了通過收購擴大規模、獲得智慧財產權及研發人員,SK 海力士也在致力於研發更先進的 DRAM 和 NAND 產品。

韓國媒體的報道顯示,在 2021 年 IEEE(電氣電子工程師學會)國際可靠性物理研討會上發表演講時,SK 海力士 CEO 李錫熙(Lee Seok-Hee)就表示,在未來十年,他們將致力於克服材料、結構和可靠性方面的挑戰,開發 10nm 以下工藝的 DRAM 和 600 堆疊層的 NAND。

在報道中,韓國媒體表示,研發 10nm 以下工藝的 DRAM,要求 SK 海力士等半導體廠商,克服光刻技術方面的挑戰。

在 NAND 方面,SK 海力士已經研發出了 176 層堆疊的 3D NAND。